NEWS

Tại sao nhôm oxit nung tấm có thể được sử dụng để đánh bóng chất bán dẫn?

Tại sao nhôm oxit nung tấm có thể được sử dụng để đánh bóng chất bán dẫn?

Platelet Calcined Alumina  là một dạng alumina (nhôm oxit) chuyên dụng được sử dụng trong nhiều ứng dụng công nghệ cao, bao gồm cả ngành công nghiệp bán dẫn. Khi nói đến  tấm wafer Gallium Arsenide (GaAs) , alumina nung tấm có thể được sử dụng trong một số quy trình quan trọng:

  1. Đánh bóng và làm phẳng :
    • Các tấm wafer GaAs cần bề mặt cực kỳ nhẵn và phẳng để chế tạo các thiết bị bán dẫn. Nhôm oxit nung dạng tấm thường được sử dụng làm vật liệu mài mòn trong bùn đánh bóng để đạt được độ hoàn thiện bề mặt mong muốn. Hình thái tấm của các hạt nhôm oxit giúp đạt được tốc độ loại bỏ vật liệu đồng đều và được kiểm soát, điều này rất quan trọng đối với các ứng dụng có độ chính xác cao.
  2. Sự san phẳng hóa học cơ học (CMP) :
    • Trong quy trình CMP, được sử dụng để làm phẳng và đánh bóng bề mặt wafer, alumina nung tiểu cầu có thể là thành phần chính của bùn. Hình dạng và độ cứng độc đáo của các hạt alumina giúp loại bỏ hiệu quả các khuyết điểm bề mặt và đạt được độ phẳng cao.
  3. Vệ sinh bề mặt :
    • Sau nhiều bước xử lý khác nhau, các tấm wafer GaAs cần được làm sạch để loại bỏ mọi hạt hoặc chất gây ô nhiễm còn sót lại. Có thể sử dụng alumina nung tiểu cầu trong dung dịch làm sạch để chà nhẹ bề mặt mà không gây hư hỏng, đảm bảo rằng các tấm wafer không có khuyết tật.
  4. Quản lý nhiệt :
    • Các thiết bị GaAs thường hoạt động ở tần số cao và có thể tạo ra nhiệt đáng kể. Nhôm oxit nung tấm, do có tính dẫn nhiệt và cách điện tuyệt vời, có thể được sử dụng trong các giải pháp quản lý nhiệt, chẳng hạn như bộ tản nhiệt hoặc chất nền, để giúp tản nhiệt và cải thiện hiệu suất và độ tin cậy của thiết bị.
  5. Đóng gói và đóng gói :
    • Trong giai đoạn cuối cùng của quá trình chế tạo thiết bị, các tấm wafer GaAs thường được cắt thành từng chip riêng lẻ và đóng gói. Nhôm oxit nung tiểu cầu có thể được sử dụng trong vật liệu đóng gói để cung cấp độ ổn định nhiệt, cách điện và độ bền cơ học.

Nhìn chung, việc sử dụng nhôm oxit nung tấm trong quá trình chế tạo tấm wafer Gallium Arsenide được thúc đẩy bởi các đặc tính độc đáo của nó, bao gồm độ cứng, độ dẫn nhiệt và độ ổn định hóa học, những yếu tố cần thiết để đạt được hiệu suất cao và độ tin cậy cần thiết trong các thiết bị bán dẫn.

Send your message to us:

Scroll to Top